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Soluciones de Aplicación por Pulverización y Chorro

Granalladora inteligente PTING - Aplicaciones en la industria de semiconductores

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Preev：Granalladora inteligente PTING - Aplicaciones en la industria de utensilios de cocina y pequeños electrodomésticos

Parámetros

¿Qué es un cátodo semiconductor? Los blancos incluyen ITO, molibdeno, cobre, aluminio, silicio, titanio, tantalio y varios tipos de aleaciones y blancos de metales raros, la estructura de la forma del producto se divide en plano, blanco giratorio. El blanco revestido se obtiene mediante pulverización catódica por magnetrón, revestimiento iónico multiarco u otros tipos de sistemas de revestimiento en las condiciones de proceso apropiadas para la pulverización catódica sobre el sustrato para formar una variedad de fuentes funcionales de pulverización catódica de película fina. En pocas palabras, el objetivo es un bombardeo de partículas cargadas de energía de alta velocidad del material objetivo, utilizado en armas láser de alta energía, diferentes densidades de potencia, diferentes formas de onda de salida, diferentes longitudes de onda de la luz láser y la interacción objetivo diferente, producirá diferentes efectos mortales y destructivos. Por ejemplo: la evaporación magnetrón sputtering recubrimiento se calienta recubrimiento de evaporación, película de aluminio y así sucesivamente. Sustitución de diferentes materiales de destino (como el aluminio, cobre, acero inoxidable, titanio, níquel objetivo, etc.), puede obtener diferentes sistemas de película (como super-duro, resistente al desgaste, película de aleación resistente a la corrosión, etc.).
El proceso de chorro de arena y de fusión de material objetivo, un método de tratamiento de un material objetivo, que comprende: proporcionar un material objetivo, dicho material objetivo que comprende una zona de no pulverización en una región de borde; chorro de arena de la superficie de dicha zona de no pulverización de dicho material objetivo para formar una superficie rugosa; y la fusión de chorro de dicha superficie rugosa para formar una capa de película en la superficie de dicha zona de no pulverización. Después del tratamiento con chorro de arena, se forma una superficie rugosa en la superficie de la zona de no pulverización del material objetivo; a continuación, la superficie rugosa se somete al tratamiento de fusión para formar una capa de película, y debido a la irregularidad de la superficie rugosa, el polvo fundido puede aterrizar fácilmente en la superficie rugosa sin rodar. La capa de película formada en la superficie de la zona no pulverizada tras el tratamiento de chorro de arena e inyección por fusión tiene una fuerte adherencia a la superficie de la zona no pulverizada en comparación con el tratamiento simple de chorro de arena. Cuando el cátodo de la presente solución técnica se aplica al sputtering de vacío durante un período de tiempo más largo, la capa de película no se desprende aunque los átomos del cátodo formen una acumulación, manteniendo estables los parámetros del sputtering. Además, esto mejora significativamente la vida útil del material objetivo, aumentando en última instancia la vida útil del material objetivo en más de un 50%.
El proceso de los requisitos de los equipos de chorro de arena son extremadamente altos: en primer lugar, la necesidad de robots o robots de chorro de arena en la pieza de trabajo para la limpieza precisa de chorro de arena y la cobertura, la limpieza, la cobertura, la rugosidad de mantener consistente y uniforme; en segundo lugar, la necesidad de aplicar diversos tipos de abrasivos ultra-finos, equipos de chorro de arena, la estabilidad de los requisitos de la muy alta, y la tercera es la alta exigencia de protección del medio ambiente, el sistema de control del equipo debe ser un completo basado en datos, inteligente.


PTING tecnología para la industria de semiconductores de destino especialmente desarrollado serie de robótica inteligente máquina de chorro de arena para la industria de semiconductores de destino para proporcionar un completo equipo localizado y soluciones de tecnología de proceso, ya no dependen de Japón, Corea, Europa y los Estados Unidos de América de la tecnología y el equipo.








Semiconductores equipo especial pertenece a la industria de semiconductores eslabones de soporte de la cadena, PTING Tecnología será arado profundo, la innovación continua y la investigación y el desarrollo, para la industria de semiconductores de China para proporcionar equipos de primera clase y la tecnología para contribuir.

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PTING Technology, fundada en 2005, es una conocida marca nacional de soluciones de sistemas de equipos de protección ambiental y tratamiento de superficies. Como Porcelana Granalladora inteligente PTING - Aplicaciones en la industria de semiconductores Proveedores y Venta al por mayor Granalladora inteligente PTING - Aplicaciones en la industria de semiconductores Fábrica. La empresa ha superado la certificación del sistema de calidad ISO9001. La base de I + D y fabricación, con una superficie construida de 25000 metros cuadrados, se encuentra en Ningbo, China. Con el centro de ultramar global de PTING en Singapur y más de 20 oficinas nacionales, la tecnología de PTING ha proporcionado el equipo del tratamiento superficial, el equipo de la protección del medio ambiente y los servicios de la tecnología de proceso a más de 2000 usuarios por todo el mundo. Los usuarios están ampliamente distribuidos en: fabricación de electrodomésticos, electrónica digital, fabricación de piezas de automóviles, hardware y baño, nuevos materiales, nuevas energías, tránsito ferroviario, aeroespacial, energía petroquímica, ingeniería naval, equipos de industria pesada, maquinaria agrícola, maquinaria de ingeniería, fabricación de muebles, etc.

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